11月4日音讯大色网，凭据半导体绸缪机构TechInsights的最新发布的叙述称，跟着极紫外 （EUV） 光刻本事的演进，该本事日益增长的动力条目或将成为一浩劫题。
现时EUV光刻本事是制造7nm及以下先进制程所需的要道本事，荷兰的 ASML 和比利时的 imec 一直是EUV光刻本事研发方面的领军企业。ASML下一代High NA EUV不仅系统纷乱且复杂（修复在晶圆厂中需要更多的空间，尤其是高度，因此不绝用于新的晶圆厂），同期老本也相等腾贵，达到了3.5亿好意思元。
好意思国政府近日还告示提供8.25亿好意思元的联邦资金，以守旧在纽约州奥尔巴尼打造EUV本事研发中心。这亦然好意思国政府在2013年Cymer被ASML收购之后，关于光刻本事研发的再行醉心。
在此之前的2023年12月11日，好意思国纽约州还告示与包括IBM、好意思光、诳骗材料（Applied Materials）、东京电子（Tokyo Electron）等半导体大厂驱散一项合营契约，瞻望将投资100亿好意思元在纽约州奥尔巴尼纳米本事轮廓体兴修下一代High-NA EUV半导体研发中心，以守旧天下上最复杂、最强盛的半导体的研发。
此外，英特尔本年也曾最初大师在其位于俄勒冈州的晶圆厂内装配了两台High NA EUV光刻机，合计其Intel 18A以下顶端制程作念准备。
“咱们现时凭借'最初一步'策略作念好了充分准备，不错对市集需求作念出快速反馈，”英特尔首席实行官 Pat Gelsigner 近日示意。“跟着咱们现已完成向 EUV 的过渡以及 Intel 18A 的推出，咱们在 Intel 14A 及更高版块的节点迷惑节拍愈加宽泛。此外，咱们的团队豪恣地专注于擢升晶圆厂的出产力，跟着时间的推移，这使咱们大要以更少的资源出产更多的产物。”
TechInsights指出，一台High NA EUV修复的功率高达1400KW，这亦然半导体工场中最为耗电的修复。而跟着配备EUV光刻机的晶圆厂数目的不断增长，关于电力的需求将会激增，这将对应电力基础步调提倡相等大的挑战。
TechInsights 现时正在追踪 31 家使用 EUV 光刻本事的晶圆厂，另外 28 家工场将在 2030 年底之前装配EUV光刻机。这将使正在启动的 EUV 光刻机数目加多一倍以上，超越于每年仅为 EUV 系统供电就需要朝上 6，100 吉瓦（1吉瓦= 1000兆瓦= 1000000千瓦）。
瞻望到2030 年，仅 EUV 光刻机的年用电量测度就可能朝上 54，000 吉瓦，这比新加坡或希腊等好多国度每年的耗电量还要多。这突显了对可抓续动力科罚决议的垂危需求，以守旧半导体行业不断增长的需求。
诚然现时的500 多家半导体制造公司当中，独一少数公司领有守旧 EUV 光刻机和相干本事，但也曾关于特定的区域动力网带来了影响。比如也曾使用EUV系统进行浩繁量出产的台积电位于中国台湾的晶圆厂、韩国的三星和SK海力士晶圆厂、好意思光位于日本的晶圆厂、好意思国亚利桑那州的英特尔和台积电晶圆厂、好意思国俄亥俄州的英特尔晶圆厂、好意思光位于纽约州及爱达荷州的晶圆厂以及三星位于得克萨斯州的晶圆厂。
诚然 EUV 修复是半导体晶圆厂最耗能的修复，但它们现时仅占晶圆厂内总耗电量的 11% 驾驭。其他半导体修复、基础步和洽 HVAC（供暖/透风/空调）系统也会对举座动力破费产生要害影响。
TechInsights 高等可抓续发展分析师 Lara Chamness 示意，为了确保可抓续的将来，半导体制造行业需要投资节能本事，探索可再活泼力，并与政策制定者合营，以应酬电力基础步调的挑战。
剪辑：芯智讯-浪客剑大色网